文献
J-GLOBAL ID:201702256993235989
整理番号:17A0210942
AlGaN/GaNおよびInAlN/AlN/GaN-HEMT構造におけるナノスケールのゲート電流リーク経路の直接観察
Direct observation of nanometer-scale gate leakage paths in AlGaN/GaN and InAlN/AlN/GaN HEMT structures
著者 (5件):
Kotani Junji
(Fujitsu Laboratories Ltd., 10-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi, Kanagawa, 243-0197, Japan)
,
Yamada Atsushi
(Fujitsu Laboratories Ltd., 10-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi, Kanagawa, 243-0197, Japan)
,
Ishiguro Tetsuro
(Fujitsu Laboratories Ltd., 10-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi, Kanagawa, 243-0197, Japan)
,
Tomabechi Shuichi
(Fujitsu Laboratories Ltd., 10-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi, Kanagawa, 243-0197, Japan)
,
Nakamura Norikazu
(Fujitsu Laboratories Ltd., 10-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi, Kanagawa, 243-0197, Japan)
資料名:
Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science
(Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)
巻:
213
号:
4
ページ:
883-888
発行年:
2016年04月
JST資料番号:
D0774A
ISSN:
1862-6300
CODEN:
PSSABA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)