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文献
J-GLOBAL ID:201702256993235989   整理番号:17A0210942

AlGaN/GaNおよびInAlN/AlN/GaN-HEMT構造におけるナノスケールのゲート電流リーク経路の直接観察

Direct observation of nanometer-scale gate leakage paths in AlGaN/GaN and InAlN/AlN/GaN HEMT structures
著者 (5件):
Kotani Junji
(Fujitsu Laboratories Ltd., 10-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi, Kanagawa, 243-0197, Japan)
Yamada Atsushi
(Fujitsu Laboratories Ltd., 10-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi, Kanagawa, 243-0197, Japan)
Ishiguro Tetsuro
(Fujitsu Laboratories Ltd., 10-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi, Kanagawa, 243-0197, Japan)
Tomabechi Shuichi
(Fujitsu Laboratories Ltd., 10-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi, Kanagawa, 243-0197, Japan)
Nakamura Norikazu
(Fujitsu Laboratories Ltd., 10-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi, Kanagawa, 243-0197, Japan)

資料名:
Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science  (Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)

巻: 213  号:ページ: 883-888  発行年: 2016年04月 
JST資料番号: D0774A  ISSN: 1862-6300  CODEN: PSSABA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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