文献
J-GLOBAL ID:201702257049408122
整理番号:17A0330489
キシレンのRFプラズマのOESおよびGC/MS研究
OES and GC/MS Study of RF Plasma of Xylenes
著者 (2件):
LEE Szetsen
(Chung Yuan Christian Univ., Taoyuan City, TWN)
,
LIU Shiao-Jun
(Chung Yuan Christian Univ., Taoyuan City, TWN)
資料名:
Plasma Chemistry and Plasma Processing
(Plasma Chemistry and Plasma Processing)
巻:
37
号:
1
ページ:
149-158
発行年:
2017年01月
JST資料番号:
H0836A
ISSN:
0272-4324
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)