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文献
J-GLOBAL ID：201702257217807971
整理番号：17A0527132
逆(反転)オフセット印刷でリフロープロセスを開発のための蒸気焼きなますによる準乾インクパターンの再湿潤
Rewetting of semi-dried ink patterns by vapour annealing for developing a reflow process in reverse offset printing
KUSAKA Yasuyuki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
SUGIHARA Kazuyoshi
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
KOUTAKE Masayoshi
(DIC Corp., Chiba, JPN)
,
USHIJIMA Hirobumi
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名：
Journal of Micromechanics and Microengineering
(Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 27 号： 1 ページ： 017002,1-7 発行年： 2017年01月
JST資料番号： W1424A ISSN： 0960-1317 CODEN： JMMIEZ 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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