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文献
J-GLOBAL ID：201702257301990121
整理番号：17A0704454
TiO_2@SiO_2/APTESの高UV遮蔽能力と下部光触媒活性とポリ(p-フェニレンスルフィド)の光安定性の増強におけるその優れた性能【Powered by NICT】
Higher UV-shielding ability and lower photocatalytic activity of TiO2@SiO2/APTES and its excellent performance in enhancing the photostability of poly(p-phenylene sulfide)
Bai Yali
(State Key Laboratory of Separation Membranes and Membrane Processes, School of Materials Science and Engineering, Tianjin Polytechnic University, Tianjin, 300387, China. zhenhuanli1975@aliyun.com lizhenhuan@tjpu.edu.cn)
,
Li Zhenhuan
,
Cheng Bowen
,
Zhang Maliang
,
Su Kunmei
資料名：
RSC Advances (Web)
(RSC Advances (Web))
巻： 7 号： 35 ページ： 21758-21767 発行年： 2017年
JST資料番号： U7055A ISSN： 2046-2069 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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