文献
J-GLOBAL ID:201702257754731321
整理番号:17A0953627
二端子アルミニウム薄膜/ナノシリコン膜/ITO構造のSchottky障壁の特性
Characteristics of the Schottky Barriers of Two-Terminal Thin-Film Al/Nano-Si Film/ITO Structures
著者 (2件):
KONONOV N. N.
(Prokhorov Inst. of General Physics, Russian Acad. of Sci., Moscow, RUS)
,
DOROFEEV S. G.
(Moscow State Univ., Moscow, RUS)
資料名:
Semiconductors
(Semiconductors)
巻:
51
号:
5
ページ:
608-616
発行年:
2017年05月
JST資料番号:
T0093A
ISSN:
1063-7826
CODEN:
SMICES
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)