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文献
J-GLOBAL ID:201702257754731321   整理番号:17A0953627

二端子アルミニウム薄膜/ナノシリコン膜/ITO構造のSchottky障壁の特性

Characteristics of the Schottky Barriers of Two-Terminal Thin-Film Al/Nano-Si Film/ITO Structures
著者 (2件):
KONONOV N. N.
(Prokhorov Inst. of General Physics, Russian Acad. of Sci., Moscow, RUS)
DOROFEEV S. G.
(Moscow State Univ., Moscow, RUS)

資料名:
Semiconductors  (Semiconductors)

巻: 51  号:ページ: 608-616  発行年: 2017年05月 
JST資料番号: T0093A  ISSN: 1063-7826  CODEN: SMICES  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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