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J-GLOBAL ID:201702257930079168   整理番号:17A0970982

連続イオン層吸着及び反応(SILAR)法によるナノフレークCuO電極の高い電気化学的性能【Powered by NICT】

High electrochemical performance of nanoflakes like CuO electrode by successive ionic layer adsorption and reaction (SILAR) method
著者 (4件):
Shinde S.K.
(Department of Biological and Environmental Science, Dongguk University-Ilsan, Biomedical Campus, Goyang-si, Gyeonggi-do,10326, Republic of Korea)
Ghodake G.S.
(Department of Biological and Environmental Science, Dongguk University-Ilsan, Biomedical Campus, Goyang-si, Gyeonggi-do,10326, Republic of Korea)
Fulari V.J.
(Holography and Materials Research Laboratory, Department of Physics, Shivaji University, Kolhapur 416 004, Maharashtra, India)
Kim D.-Y.
(Department of Biological and Environmental Science, Dongguk University-Ilsan, Biomedical Campus, Goyang-si, Gyeonggi-do,10326, Republic of Korea)

資料名:
Journal of Industrial and Engineering Chemistry  (Journal of Industrial and Engineering Chemistry)

巻: 52  ページ: 12-17  発行年: 2017年 
JST資料番号: W3170A  ISSN: 1226-086X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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