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文献
J-GLOBAL ID：201702258006895060
整理番号：17A0594544
ドライエッチングとフェムト秒レーザ加工により作製されたシリコン三次元構造体
Silicon three-dimensional structures fabricated by femtosecond laser modification with dry etching
LIU Xue-Qing
(Jilin Univ., Changchun, CHN)
,
YU Lei
(Jilin Univ., Changchun, CHN)
,
MA Zhuo-Chen
(Jilin Univ., Changchun, CHN)
,
CHEN Qi-Dai
(Jilin Univ., Changchun, CHN)
資料名：
Applied Optics
(Applied Optics)
巻： 56 号： 8 ページ： 2157-2161 発行年： 2017年03月10日
JST資料番号： B0026B ISSN： 1559-128X CODEN： APOPAI 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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