文献
J-GLOBAL ID:201702258419653405
整理番号:17A0402547
糸状分解能を考慮したなしのナノインプリントリソグラフィーと異方性湿式エッチングの組み合わせによるサブ50nm構造のパターン形成【Powered by NICT】
Sub-50-nm structure patterning by combining nanoimprint lithography and anisotropic wet etching without considering original mold resolution
著者 (4件):
Kuwae Hiroyuki
(Nano-Science and Nano-Engineering, Waseda University, 3-4-1 Okubo, Shinjuku, Tokyo 169-8555, Japan)
,
Okada Akiko
(Nano-Science and Nano-Engineering, Waseda University, 3-4-1 Okubo, Shinjuku, Tokyo 169-8555, Japan)
,
Shoji Shuichi
(Nano-Science and Nano-Engineering, Waseda University, 3-4-1 Okubo, Shinjuku, Tokyo 169-8555, Japan)
,
Mizuno Jun
(Research Organization for Nano and Life Innovation, Waseda University, 513 Wasedatsurumakicho, Shinjuku, Tokyo 162-0041, Japan)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
169
ページ:
39-42
発行年:
2017年
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)