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文献
J-GLOBAL ID：201702258419653405
整理番号：17A0402547
糸状分解能を考慮したなしのナノインプリントリソグラフィーと異方性湿式エッチングの組み合わせによるサブ50nm構造のパターン形成【Powered by NICT】
Sub-50-nm structure patterning by combining nanoimprint lithography and anisotropic wet etching without considering original mold resolution
Kuwae Hiroyuki
(Nano-Science and Nano-Engineering, Waseda University, 3-4-1 Okubo, Shinjuku, Tokyo 169-8555, Japan)
,
Okada Akiko
(Nano-Science and Nano-Engineering, Waseda University, 3-4-1 Okubo, Shinjuku, Tokyo 169-8555, Japan)
,
Shoji Shuichi
(Nano-Science and Nano-Engineering, Waseda University, 3-4-1 Okubo, Shinjuku, Tokyo 169-8555, Japan)
,
Mizuno Jun
(Research Organization for Nano and Life Innovation, Waseda University, 513 Wasedatsurumakicho, Shinjuku, Tokyo 162-0041, Japan)
資料名：
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻： 169 ページ： 39-42 発行年： 2017年
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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