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文献
J-GLOBAL ID：201702258562807595
整理番号：17A0444963
軟X線干渉リソグラフィーによる高アスペクト比ナノスケール周期構造の作製【Powered by NICT】
Fabrication of high aspect ratio nanoscale periodic structures by the soft X-ray interference lithography
Zhao Jun
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China)
,
Wu Yanqing
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China)
,
Xue Chaofan
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China)
,
Yang Shumin
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China)
,
Wang Liansheng
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China)
,
Zhu Fangyuan
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China)
,
Zhu Zhichao
(Shanghai Key Laboratory of Special Artificial Microstructure Materials and Technology, School of Physics Science and Engineering, Tongji University, Shanghai 200092, China)
,
Liu Bo
(Shanghai Key Laboratory of Special Artificial Microstructure Materials and Technology, School of Physics Science and Engineering, Tongji University, Shanghai 200092, China)
,
Wang Yong
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China)
,
Tai Renzhong
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, PR China)
資料名：
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻： 170 ページ： 49-53 発行年： 2017年
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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