文献
J-GLOBAL ID:201702259533300408
整理番号:17A0937832
TiO_2(A)バッファ層と第一原理計算研究によるスパッタリングにより作製した高性能温度感受性VO_2(B)薄膜【Powered by NICT】
High-performance thermal sensitive VO2(B) thin films prepared by sputtering with TiO2(A) buffer layer and first-principles calculations study
著者 (5件):
Ding Zhuohan
(School of Materials Science and Engineering, Shanghai University, Shanghai 200444, China. yfgao@shu.edu.cn echowandy@shu.edu.cn)
,
Cui Yuanyuan
,
Wan Dongyun
,
Luo Hongjie
,
Gao Yanfeng
資料名:
RSC Advances (Web)
(RSC Advances (Web))
巻:
7
号:
47
ページ:
29496-29504
発行年:
2017年
JST資料番号:
U7055A
ISSN:
2046-2069
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)