文献
J-GLOBAL ID:201702260521065568
整理番号:17A0591822
反応性マグネトロンスパッタリングにより作成したPtOx膜に対するスタッパリング出力の影響
Effects of Sputtering Power on PtOx Films Prepared by Reactive Magnetron Sputtering
著者 (5件):
KANG Wenbo
(Northwestern Polytechnical Univ., Xi’an, CHN)
,
ZHU Dongmei
(Northwestern Polytechnical Univ., Xi’an, CHN)
,
HUANG Zhibin
(Northwestern Polytechnical Univ., Xi’an, CHN)
,
ZHOU Wancheng
(Northwestern Polytechnical Univ., Xi’an, CHN)
,
LUO Fa
(Northwestern Polytechnical Univ., Xi’an, CHN)
資料名:
Journal of Nanoscience and Nanotechnology
(Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻:
17
号:
6
ページ:
3848-3852
発行年:
2017年06月
JST資料番号:
W1351A
ISSN:
1533-4880
CODEN:
JNNOAR
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)