文献
J-GLOBAL ID:201702261320190552
整理番号:17A0522193
シリコンウエハ上の銀ナノ粒子集積SiO2層による2層反射防止:ナノ粒子形態およびSiO2膜厚の影響
Double-layer antireflection from silver nanoparticle integrated SiO2 layer on silicon wafer: effect of nanoparticle morphology and SiO2 film thickness
著者 (3件):
PARASHAR Piyush K
(Indian Inst. of Technol. Delhi, New Delhi, IND)
,
SHARMA R P
(Indian Inst. of Technol. Delhi, New Delhi, IND)
,
KOMARALA Vamsi K
(Indian Inst. of Technol. Delhi, New Delhi, IND)
資料名:
Journal of Physics. D. Applied Physics
(Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻:
50
号:
3
ページ:
035105,1-12
発行年:
2017年01月25日
JST資料番号:
B0092B
ISSN:
0022-3727
CODEN:
JPAPBE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)