文献
J-GLOBAL ID:201702261506856866
整理番号:17A1033141
FIBに基づくリソグラフィーを用いたEモードInGaN/AlGaN/GaNH EMTの作製【Powered by NICT】
Fabrication of E-mode InGaN/AlGaN/GaN HEMT using FIB based lithography
著者 (3件):
Majumdar Shubhankar
(National Institute of Technology, Raipur, India)
,
Sahu Chitrakant
(Malaviya National Institute of Technology, Jaipur, India)
,
Biswas Dhrubes
(Indian Institute of Technology, Kharagpur, India)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2017
号:
EDTM
ページ:
175-177
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)