文献
J-GLOBAL ID:201702261562798789
整理番号:17A0318050
可変保持時間とチャネル注入の間の関係の研究【Powered by NICT】
The study of relation between variable retention time and channel implantation
著者 (2件):
Son Younghwan
(Semiconductor Research Center, Samsung Electronics, San 16, Banwol-dong, Hwasung-city, Gyeonggi-do, Korea)
,
Kang Myounggon
(Semiconductor Research Center, Samsung Electronics, San 16, Banwol-dong, Hwasung-city, Gyeonggi-do, Korea)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
162
ページ:
82-84
発行年:
2016年
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)