文献
J-GLOBAL ID:201702261630156360
整理番号:17A0453606
DUVリソグラフィーのための亜鉛オキソクラスタフォトレジストの化学的および構造的研究【Powered by NICT】
Chemical and structural investigation of zinc-oxo cluster photoresists for DUV lithography
著者 (6件):
Yeh Chun-Cheng
(Institut de Science des Materiaux de Mulhouse (IS2M), CNRS - UMR 7361, Universite de Haute Alsace, 15 rue Jean Starcky, Mulhouse, France. chun-cheng.yeh@uha.fr olivier.soppera@uha.fr)
,
Liu Hung-Chuan
,
Heni Wajdi
,
Berling Dominique
,
Zan Hsiao-Wen
,
Soppera Olivier
資料名:
Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices
(Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻:
5
号:
10
ページ:
2611-2619
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2383A
ISSN:
2050-7526
CODEN:
JMCCCX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)