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文献
J-GLOBAL ID：201702261692263879
整理番号：17A0385872
MIM構造中のAl2O3とHfO2薄膜の絶縁破壊の過渡過程の比較研究とそれの材料の熱特性との関連
Comparative study of the breakdown transients of thin Al2O3 and HfO2 films in MIM structures and their connection with the thermal properties of materials
Pazos S.
(Consejo Nacional de Investigaciones Cientificas y Tecnicas, Godoy Cruz 2290 (C1425FQB), Buenos Aires, Argentina)
,
Aguirre F.
(Consejo Nacional de Investigaciones Cientificas y Tecnicas, Godoy Cruz 2290 (C1425FQB), Buenos Aires, Argentina)
,
Miranda E.
(Departament d’Enginyeria Electronica, Universitat Autonoma de Barcelona, Bellaterra 08193, Spain)
,
Lombardo S.
(Istituto per la Microelettronica e Microsistemi (IMM), Consiglio Nazionale delle Ricerche (CNR), Zona Industriale, Ottava Strada, 5, 95121 Catania, Italy)
,
Palumbo F.
(Consejo Nacional de Investigaciones Cientificas y Tecnicas, Godoy Cruz 2290 (C1425FQB), Buenos Aires, Argentina)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 121 号： 9 ページ： 094102-094102-8 発行年： 2017年03月07日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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