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文献
J-GLOBAL ID：201702261730532059
整理番号：17A1038189
Zrドーピングの関数としてのHfO_2薄膜の強誘電性【Powered by NICT】
Ferroelectricity in HfO2 thin films as a function of Zr doping
Karbasian Golnaz
(Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California, Berkeley, United States of America)
,
Tan Ava
(Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California, Berkeley, United States of America)
,
Yadav Ajay
(Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California, Berkeley, United States of America)
,
Sorensen Eric Martin Henry
(Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California, Berkeley, United States of America)
,
Serrao Claudy Rayan
(Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California, Berkeley, United States of America)
,
Khan Asif Islam
(Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California, Berkeley, United States of America)
,
Chatterjee Korok
(Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California, Berkeley, United States of America)
,
Sangwan Kim
(Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California, Berkeley, United States of America)
,
Chenming Hu
(Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California, Berkeley, United States of America)
,
Salahuddin Sayeef
(Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California, Berkeley, United States of America)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017 号： VLSI-TSA ページ： 1-2 発行年： 2017年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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