文献
J-GLOBAL ID:201702261919035382
整理番号:17A0776924
集光型コヒーレント回折イメージング法によるEUVマスク上の欠陥評価法の開発
Development of an EUV Microscope with Focused Coherent EUV based on Coherent Diffraction Imaging Method for Defect Evaluation on an EUV Mask
著者 (3件):
原田哲男
(兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 EUVリソグラフィー研究開発センター)
,
橋本拓
(兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 EUVリソグラフィー研究開発センター)
,
渡邊健夫
(兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 EUVリソグラフィー研究開発センター)
資料名:
電気学会論文誌 A
(IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
巻:
137
号:
5
ページ:
260-264(J-STAGE)
発行年:
2017年
JST資料番号:
S0808A
ISSN:
0385-4205
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)