文献
J-GLOBAL ID:201702262008347036
整理番号:17A0402808
バイアス基板上にrf反応性マグネトロンスパッタリングにより堆積したTiO_2薄膜の性質【Powered by NICT】
Properties of TiO2 thin films deposited by rf reactive magnetron sputtering on biased substrates
著者 (8件):
Nezar Sawsen
(Equipe Plasma & Applications, Division des Milieux Ionises et Lasers, Centre de Developpement des Technologies Avancees, Cite du 20 Aout 1956, Baba Hassen, Alger, Algeria)
,
Nezar Sawsen
(Laboratoire des phenomenes de transfert, genie chimique, Faculte de Genie des procedes, USTHB, BP 32 El-alia, Bab Ezzouar, Alger, Algeria)
,
Saoula Nadia
(Equipe Plasma & Applications, Division des Milieux Ionises et Lasers, Centre de Developpement des Technologies Avancees, Cite du 20 Aout 1956, Baba Hassen, Alger, Algeria)
,
Sali Samira
(Centre de Recherche en Technologie des Semi-conducteurs pour l’Energetique (CRTSE Algiers), Algeria)
,
Faiz Mohammed
(Physics Department, King Fahd University of Petroleum and Minerals, Dhahran, Saudi Arabia)
,
Mekki Mogtaba
(Physics Department, King Fahd University of Petroleum and Minerals, Dhahran, Saudi Arabia)
,
Laoufi Nadia Aiecha
(Laboratoire des phenomenes de transfert, genie chimique, Faculte de Genie des procedes, USTHB, BP 32 El-alia, Bab Ezzouar, Alger, Algeria)
,
Tabet Nouar
(Qatar Environment and Energy Research Institute, Hamad Bin Khalifa University (HBKU), Doha, Qatar)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
395
ページ:
172-179
発行年:
2017年
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)