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J-GLOBAL ID:201702262008347036   整理番号:17A0402808

バイアス基板上にrf反応性マグネトロンスパッタリングにより堆積したTiO_2薄膜の性質【Powered by NICT】

Properties of TiO2 thin films deposited by rf reactive magnetron sputtering on biased substrates
著者 (8件):
Nezar Sawsen
(Equipe Plasma & Applications, Division des Milieux Ionises et Lasers, Centre de Developpement des Technologies Avancees, Cite du 20 Aout 1956, Baba Hassen, Alger, Algeria)
Nezar Sawsen
(Laboratoire des phenomenes de transfert, genie chimique, Faculte de Genie des procedes, USTHB, BP 32 El-alia, Bab Ezzouar, Alger, Algeria)
Saoula Nadia
(Equipe Plasma & Applications, Division des Milieux Ionises et Lasers, Centre de Developpement des Technologies Avancees, Cite du 20 Aout 1956, Baba Hassen, Alger, Algeria)
Sali Samira
(Centre de Recherche en Technologie des Semi-conducteurs pour l’Energetique (CRTSE Algiers), Algeria)
Faiz Mohammed
(Physics Department, King Fahd University of Petroleum and Minerals, Dhahran, Saudi Arabia)
Mekki Mogtaba
(Physics Department, King Fahd University of Petroleum and Minerals, Dhahran, Saudi Arabia)
Laoufi Nadia Aiecha
(Laboratoire des phenomenes de transfert, genie chimique, Faculte de Genie des procedes, USTHB, BP 32 El-alia, Bab Ezzouar, Alger, Algeria)
Tabet Nouar
(Qatar Environment and Energy Research Institute, Hamad Bin Khalifa University (HBKU), Doha, Qatar)

資料名:
Applied Surface Science  (Applied Surface Science)

巻: 395  ページ: 172-179  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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