文献
J-GLOBAL ID:201702262258215581
整理番号:17A0335235
ナノ多孔質レイヤーバイレイヤー自己集合多層を製造するための「浸透後,次の光化学的架橋」および「架橋ならびに選択的エッチング」戦略の組合せ
Combined “post-infiltration, subsequent photochemical cross-linking” and “cross-linking and selective etching” strategies to fabricate nanoporous layer-by-layer assembled multilayers
著者 (3件):
DU Heng
(Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN)
,
ZHANG Yajun
(Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN)
,
LV Shanshan
(Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN)
資料名:
Colloid and Polymer Science
(Colloid and Polymer Science)
巻:
295
号:
2
ページ:
317-325
発行年:
2017年02月
JST資料番号:
C0415A
ISSN:
0303-402X
CODEN:
CPMSB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)