文献
J-GLOBAL ID:201702262449171329
整理番号:17A1627440
透明エレクトロニクスのためのDCスパッタリング法による種々の基板上に堆積したBi_2O_3とNiO超薄膜の光学的性質比較【Powered by NICT】
Comparison the optical properties for Bi2O3 and NiO ultrathin films deposited on different substrates by DC sputtering technique for transparent electronics
著者 (2件):
Rasheed M.
(MOLTECH-Anjou, Universite d’Angers/UMR CNRS 6200, 2 Bd Lavoisier, 49045, Angers, France)
,
Barille R.
(MOLTECH-Anjou, Universite d’Angers/UMR CNRS 6200, 2 Bd Lavoisier, 49045, Angers, France)
資料名:
Journal of Alloys and Compounds
(Journal of Alloys and Compounds)
巻:
728
ページ:
1186-1198
発行年:
2017年
JST資料番号:
D0083A
ISSN:
0925-8388
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)