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J-GLOBAL ID:201702262862919749   整理番号:17A0402933

プリンテッドエレクトロニクスのための室温処理した酸化インジウムナノ粒子薄膜に及ぼすNaClの影響【Powered by NICT】

The effect of NaCl on room-temperature-processed indium oxide nanoparticle thin films for printed electronics
著者 (16件):
Haeming M.
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute for Photon Science and Synchrotron Radiation (IPS), D-76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
Baby T.T.
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute of Nanotechnology, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
Garlapati S.K.
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute of Nanotechnology, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
Garlapati S.K.
(Technische Universitaet Darmstadt, KIT-TUD Joint Research Laboratory for Nanomaterials, Jovanka-Bontschits-Str. 2, 64287 Darmstadt, Germany)
Krause B.
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute for Photon Science and Synchrotron Radiation (IPS), D-76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
Hahn H.
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute of Nanotechnology, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
Hahn H.
(Technische Universitaet Darmstadt, KIT-TUD Joint Research Laboratory for Nanomaterials, Jovanka-Bontschits-Str. 2, 64287 Darmstadt, Germany)
Hahn H.
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Helmholtz Institute Ulm, Albert-Einstein-Allee 11, 89081 Ulm, Germany)
Dasgupta S.
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute of Nanotechnology, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
Dasgupta S.
(Department of Materials Engineering, Indian Institute of Science, Bangalore 560012, India)
Weinhardt L.
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute for Photon Science and Synchrotron Radiation (IPS), D-76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
Weinhardt L.
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute for Chemical Technology and Polymer Chemistry (ITCP), 76128 Karlsruhe, Germany)
Weinhardt L.
(University of Nevada, Las Vegas (UNLV), Department of Chemistry and Biochemistry, Las Vegas, NV 89154-4003, USA)
Heske C.
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute for Photon Science and Synchrotron Radiation (IPS), D-76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
Heske C.
(Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Institute for Chemical Technology and Polymer Chemistry (ITCP), 76128 Karlsruhe, Germany)
Heske C.
(University of Nevada, Las Vegas (UNLV), Department of Chemistry and Biochemistry, Las Vegas, NV 89154-4003, USA)

資料名:
Applied Surface Science  (Applied Surface Science)

巻: 396  ページ: 912-919  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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