文献
J-GLOBAL ID:201702262927410870
整理番号:17A1444602
ホロー陰極活性化PECVDプロセスを用いたけい素含有プラズマ高分子コーティングの障壁性能に適用されるパワーの影響【Powered by NICT】
Influence of the applied power on the barrier performance of silicon-containing plasma polymer coatings using a hollow cathode-activated PECVD process
著者 (4件):
Top Michiel
(Fraunhofer Institute for Organic Electronics, Electron Beam and Plasma Technology FEP, Dresden, Germany)
,
Top Michiel
(Department of Applied Physics, University of Groningen, Groningen, The Netherlands)
,
Fahlteich John
(Fraunhofer Institute for Organic Electronics, Electron Beam and Plasma Technology FEP, Dresden, Germany)
,
De Hosson Jeff T. M.
(Department of Applied Physics, University of Groningen, Groningen, The Netherlands)
資料名:
Plasma Processes and Polymers
(Plasma Processes and Polymers)
巻:
14
号:
9
ページ:
ROMBUNNO.201700016
発行年:
2017年
JST資料番号:
W1950A
ISSN:
1612-8850
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)