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文献
J-GLOBAL ID：201702263303261809
整理番号：17A0740650
高性能フォト検出用印刷可能な転写自由でウェハサイズのMoS2/グラフェンvan der Waalsヘテロ構造
Printable Transfer-Free and Wafer-Size MoS2/Graphene van der Waals Heterostructures for High-Performance Photodetection
LIU Qingfeng
(Univ. Kansas, Kansas, USA)
,
COOK Brent
(Univ. Kansas, Kansas, USA)
,
GONG Maogang
(Univ. Kansas, Kansas, USA)
,
GONG Youpin
(Univ. Kansas, Kansas, USA)
,
EWING Dan
(Dep. of Energy’s National Security Campus, Missouri, USA)
,
CASPER Matthew
(Dep. of Energy’s National Security Campus, Missouri, USA)
,
STRAMEL Alex
(Dep. of Energy’s National Security Campus, Missouri, USA)
,
WU Judy
(Univ. Kansas, Kansas, USA)
資料名：
ACS Applied Materials & Interfaces
(ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 9 号： 14 ページ： 12728-12733 発行年： 2017年04月12日
JST資料番号： W2329A ISSN： 1944-8244 CODEN： AAMICK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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