文献
J-GLOBAL ID:201702263304206519
整理番号:17A0934976
パルスガス注入マグネトロンスパッタリング法を用いて蒸着した非晶質状Al_2O_3,SnO_2とTiO_2薄層の光学的および微細構造的特性化【Powered by NICT】
Optical and microstructural characterization of amorphous-like Al2O3, SnO2 and TiO2 thin layers deposited using a pulse gas injection magnetron sputtering technique
著者 (3件):
Skowronski L.
(Institute of Mathematics and Physics, UTP University of Science and Technology, Kaliskiego 7, Bydgoszcz 85-796, Poland)
,
Szczesny R.
(Faculty of Chemistry, Nicolaus Copernicus University, Gagarina 7, Torun 87-100, Poland)
,
Zdunek K.
(Faculty of Materials Science, Warsaw University of Technology, Woloska 141, Warsaw 02-507, Poland)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
632
ページ:
112-118
発行年:
2017年
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)