文献
J-GLOBAL ID:201702263791087933
整理番号:17A0953269
化学増幅型極端紫外線レジストの10nmハーフピッチ解像範囲における増感剤濃度とレジスト性能との関係
Relationship between sensitizer concentration and resist performance of chemically amplified extreme ultraviolet resists in sub-10 nm half-pitch resolution region
著者 (3件):
KOZAWA Takahiro
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SANTILLAN Julius Joseph
(EUVL Infrastructure Dev. Center, Inc. (EIDEC), Ibaraki, JPN)
,
ITANI Toshiro
(EUVL Infrastructure Dev. Center, Inc. (EIDEC), Ibaraki, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
56
号:
1
ページ:
016501.1-016501.6
発行年:
2017年01月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)