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文献
J-GLOBAL ID：201702264068146559
整理番号：17A0869529
ビス〔ビス(トリメチルシリル)アミノ〕錫(II)からの,酸化錫薄膜のオゾンと水を利用した原子層堆積
Atomic layer deposition of tin oxide thin films from bis[bis(trimethylsilyl)amino]tin(II) with ozone and water
Tupala Jere
(Department of Chemistry, University of Helsinki, P.O. Box 55, FI-00014, Helsinki, Finland)
,
Kemell Marianna
(Department of Chemistry, University of Helsinki, P.O. Box 55, FI-00014, Helsinki, Finland)
,
Mattinen Miika
(Department of Chemistry, University of Helsinki, P.O. Box 55, FI-00014, Helsinki, Finland)
,
Meinander Kristoffer
(Division of Materials Physics, Department of Physics, University of Helsinki, P.O. Box 43, FI-00014, Helsinki, Finland)
,
Seppaelae Sanni
(Department of Chemistry, University of Helsinki, P.O. Box 55, FI-00014, Helsinki, Finland)
,
Hatanpaeae Timo
(Department of Chemistry, University of Helsinki, P.O. Box 55, FI-00014, Helsinki, Finland)
,
Raeisaenen Jyrki
(Division of Materials Physics, Department of Physics, University of Helsinki, P.O. Box 43, FI-00014, Helsinki, Finland)
,
Ritala Mikko
(Department of Chemistry, University of Helsinki, P.O. Box 55, FI-00014, Helsinki, Finland)
,
Leskelae Markku
(Department of Chemistry, University of Helsinki, P.O. Box 55, FI-00014, Helsinki, Finland)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35 号： 4 ページ： 041506-041506-8 発行年： 2017年07月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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