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文献
J-GLOBAL ID：201702264408646829
整理番号：17A0834005
BiFeO_3薄膜におけるドメイン工学【Powered by NICT】
Domain engineering in BiFeO3 thin films
Baek Seung-Hyub
(Center for Electronic Materials, Korea Institute of Science and Technology, Seoul, 136-791, Republic of Korea)
,
Baek Seung-Hyub
(Department of Nanomaterials Science and Technology, Korea University of Science and Technology, Daejeon, 305-333, Republic of Korea)
,
Choi Seokhoon
(Department of Materials Science and Engineering, Research Institute of Advanced Materials, Seoul National University, Seoul, 08826, Republic of Korea)
,
Kim Taemin Ludvic
(Department of Materials Science and Engineering, Research Institute of Advanced Materials, Seoul National University, Seoul, 08826, Republic of Korea)
,
Jang Ho Won
(Department of Materials Science and Engineering, Research Institute of Advanced Materials, Seoul National University, Seoul, 08826, Republic of Korea)
資料名：
Current Applied Physics
(Current Applied Physics)
巻： 17 号： 5 ページ： 688-703 発行年： 2017年
JST資料番号： W1579A ISSN： 1567-1739 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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