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文献
J-GLOBAL ID：201702264568093455
整理番号：17A1057749
パルスレーザ蒸着における制御酸素分圧によるRuddlesden-Popperストロンチウムイリジウム酸化物エピタキシャル膜の選択的成長【Powered by NICT】
Selective growth of Ruddlesden-Popper strontium iridate epitaxial films by controlling oxygen partial pressure in pulsed laser deposition
Chen Bin-Jie
(Key Laboratory of Polar Materials and Devices, Ministry of Education, Department of Electronic Engineering, East China Normal University, Shanghai 200241, China)
,
Yang Nan
(Key Laboratory of Polar Materials and Devices, Ministry of Education, Department of Electronic Engineering, East China Normal University, Shanghai 200241, China)
,
Zhong Ni
(Key Laboratory of Polar Materials and Devices, Ministry of Education, Department of Electronic Engineering, East China Normal University, Shanghai 200241, China)
,
Tang Xiao-Dong
(Key Laboratory of Polar Materials and Devices, Ministry of Education, Department of Electronic Engineering, East China Normal University, Shanghai 200241, China)
,
Yang Ping-Xiong
(Key Laboratory of Polar Materials and Devices, Ministry of Education, Department of Electronic Engineering, East China Normal University, Shanghai 200241, China)
,
Xiang Ping-Hua
(Key Laboratory of Polar Materials and Devices, Ministry of Education, Department of Electronic Engineering, East China Normal University, Shanghai 200241, China)
,
Duan Chun-Gang
(Key Laboratory of Polar Materials and Devices, Ministry of Education, Department of Electronic Engineering, East China Normal University, Shanghai 200241, China)
資料名：
Materials Letters
(Materials Letters)
巻： 202 ページ： 96-98 発行年： 2017年
JST資料番号： E0935A ISSN： 0167-577X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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