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文献
J-GLOBAL ID:201702264603301081   整理番号:17A0590383

LaおよびAl共ドープBiFeO3エピタキシャル膜の成長と強誘電特性

Growth and ferroelectric properties of La and Al codoped BiFeO3 epitaxial films
著者 (3件):
Izumi Hirokazu
(Hyogo Prefectural Institute of Technology, Kobe, Hyogo 654-0037, Japan)
Yoshimura Takeshi
(College of Engineering, Osaka Prefecture University, Sakai, Osaka 599-8531, Japan)
Fujimura Norifumi
(College of Engineering, Osaka Prefecture University, Sakai, Osaka 599-8531, Japan)

資料名:
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

巻: 121  号: 17  ページ: 174102-174102-6  発行年: 2017年05月07日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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