文献
J-GLOBAL ID:201702264603301081
整理番号:17A0590383
LaおよびAl共ドープBiFeO3エピタキシャル膜の成長と強誘電特性
Growth and ferroelectric properties of La and Al codoped BiFeO3 epitaxial films
著者 (3件):
Izumi Hirokazu
(Hyogo Prefectural Institute of Technology, Kobe, Hyogo 654-0037, Japan)
,
Yoshimura Takeshi
(College of Engineering, Osaka Prefecture University, Sakai, Osaka 599-8531, Japan)
,
Fujimura Norifumi
(College of Engineering, Osaka Prefecture University, Sakai, Osaka 599-8531, Japan)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
121
号:
17
ページ:
174102-174102-6
発行年:
2017年05月07日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)