文献
J-GLOBAL ID:201702265872934746
整理番号:17A1810410
超大パワー熱プラズマジェットの発生とアモルファスシリコン膜結晶化への応用
Generation of ultra high-power thermal plasma jet and its application to crystallization of amorphous silicon films
著者 (4件):
NAKASHIMA Ryosuke
(Hiroshima Univ., Hiroshima, JPN)
,
SHIN Ryota
(Hiroshima Univ., Hiroshima, JPN)
,
HANAFUSA Hiroaki
(Hiroshima Univ., Hiroshima, JPN)
,
HIGASHI Seiichiro
(Hiroshima Univ., Hiroshima, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
56
号:
6S2
ページ:
06HE05.1-06HE05.4
発行年:
2017年06月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)