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文献
J-GLOBAL ID：201702266064338213
整理番号：17A0831345
フェムト秒レーザ照射下での硫黄ドープシリコンの広帯域赤外応答【Powered by NICT】
Broadband infrared response of sulfur hyperdoped silicon under femtosecond laser irradiation
Zhang Ting
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, Sichuan 610054, China)
,
Ahmad Waseem
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, Sichuan 610054, China)
,
Liu Bohan
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, Sichuan 610054, China)
,
Xuan Yaoyu
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, Sichuan 610054, China)
,
Ying Xiangxiao
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, Sichuan 610054, China)
,
Liu Zhijun
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, Sichuan 610054, China)
,
Li Yuankai
(The Second Research Institute of CAAC, Chengdu, Sichuan 610041, China)
,
Chen Zhi
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, Sichuan 610054, China)
,
Chen Zhi
(Department of Electrical & Computer Engineering and Center for Nanoscale Science & Engineering, University of Kentucky, Lexington, KY 40506, USA)
,
Li Shibin
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, Sichuan 610054, China)
資料名：
Materials Letters
(Materials Letters)
巻： 196 ページ： 16-19 発行年： 2017年
JST資料番号： E0935A ISSN： 0167-577X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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