文献
J-GLOBAL ID:201702266266637526
整理番号:17A1459335
H_2/N_2における低温焼成,高k誘電体の処理と性質【Powered by NICT】
Processing and properties of a low-fire, high-k dielectric in H2/N2
著者 (3件):
Guan Minxin
(Department of Materials Science and Engineering, National Tsing Hua University, Hsinchu, Taiwan)
,
Tseng Fu-Ning
(Department of Materials Science and Engineering, National Tsing Hua University, Hsinchu, Taiwan)
,
Jean Jau-Ho
(Department of Materials Science and Engineering, National Tsing Hua University, Hsinchu, Taiwan)
資料名:
Ceramics International
(Ceramics International)
巻:
43
号:
S1
ページ:
S270-S273
発行年:
2017年
JST資料番号:
H0705A
ISSN:
0272-8842
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)