文献
J-GLOBAL ID:201702267262894424
整理番号:17A1607794
シリカ/水界面での電気二重層構造を記述するための新しいツールとしての低温XPSで評価した対イオンと共存イオンの蓄積【Powered by NICT】
Accumulation of counterions and coions evaluated by cryogenic XPS as a new tool for describing the structure of electric double layer at the silica/water interface
著者 (5件):
Skvarla Jiri
(Institute of Earth Resources, Technical University in Kosice, 042 00 Kosice, Slovak Republic. jiri.skvarla@tuke.sk)
,
Kanuchova Maria
,
Shchukarev Andrey
,
Brezani Ivan
,
Skvarla Juraj
資料名:
Physical Chemistry Chemical Physics
(Physical Chemistry Chemical Physics)
巻:
19
号:
43
ページ:
29047-29052
発行年:
2017年
JST資料番号:
A0271C
ISSN:
1463-9076
CODEN:
PPCPFQ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)