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文献
J-GLOBAL ID：201702267750855382
整理番号：17A1494994
2光子染料のない複合体2D及び3Dナノ構造のサブ波長リソグラフィー【Powered by NICT】
Sub-wavelength lithography of complex 2D and 3D nanostructures without two-photon dyes
Chaudhary Raghvendra P.
(Nanostructures Engineering and Modeling Laboratory, Department of Metallurgical Engineering and Materials Science, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, MH 400076, India)
,
Jaiswal Arun
(Nanostructures Engineering and Modeling Laboratory, Department of Metallurgical Engineering and Materials Science, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, MH 400076, India)
,
Ummethala Govind
(Nanostructures Engineering and Modeling Laboratory, Department of Metallurgical Engineering and Materials Science, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, MH 400076, India)
,
Hawal Suyog R.
(Nanostructures Engineering and Modeling Laboratory, Department of Metallurgical Engineering and Materials Science, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, MH 400076, India)
,
Saxena Sumit
(Nanostructures Engineering and Modeling Laboratory, Department of Metallurgical Engineering and Materials Science, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, MH 400076, India)
,
Shukla Shobha
(Nanostructures Engineering and Modeling Laboratory, Department of Metallurgical Engineering and Materials Science, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, MH 400076, India)
資料名：
Additive Manufacturing
(Additive Manufacturing)
巻： 16 ページ： 30-34 発行年： 2017年
JST資料番号： W3016A ISSN： 2214-8604 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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