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文献
J-GLOBAL ID：201702268340171092
整理番号：17A1501857
歪み工学による制御された単分子層ReSe_2におけるカチオン欠陥に誘起された磁性【Powered by NICT】
Magnetism induced by cationic defect in monolayer ReSe2 controlled by strain engineering
Meng M.
(School of Physics and Telecommunication Engineering, Zhoukou Normal University, Zhoukou, Henan 466001, PR China)
,
Shi C.G.
(College of Chemistry and Chemical Engineering, Nantong University, Nantong 226019, PR China)
,
Li T.
(College of Electronic Engineering, Guangxi Normal University, Guilin 541004, PR China)
,
Shi S.E.
(School of Physics and Telecommunication Engineering, Zhoukou Normal University, Zhoukou, Henan 466001, PR China)
,
Shi S.E.
(College of Electronic Engineering, Guangxi Normal University, Guilin 541004, PR China)
,
Li T.H.
(College of Electronic Engineering, Guangxi Normal University, Guilin 541004, PR China)
,
Liu L.Z.
(Microstructures, National Laboratory of Solid State Microstructures, Nanjing University, Nanjing 210093, PR China)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 425 ページ： 696-701 発行年： 2017年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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