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文献
J-GLOBAL ID：201702268599154505
整理番号：17A0132691
通常のプラズマエッチング装置に近い装置での原子層エッチング
Atomic layer etching in close-to-conventional plasma etch tools
Goodyear Andy
(Oxford Instruments Plasma Technology, North End, Yatton, Bristol BS49 4AP, United Kingdom)
,
Cooke Mike
(Oxford Instruments Plasma Technology, North End, Yatton, Bristol BS49 4AP, United Kingdom)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35 号： 1 ページ： 01A105-01A105-4 発行年： 2017年01月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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