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文献
J-GLOBAL ID：201702268630888804
整理番号：17A0404111
多重アークイオンめっきにより蒸着したAl-Ti-N膜の微細構造と性質に及ぼす負バイアス電圧の影響【Powered by NICT】
Influence of negative bias voltage on microstructure and property of Al-Ti-N films deposited by multi-arc ion plating
Cai Fei
(Research Center of Modern Surface and Interface Engineering, Anhui University of Technology, Maanshan City, Anhui Province 243002, PR China)
,
Chen Mohan
(Research Center of Modern Surface and Interface Engineering, Anhui University of Technology, Maanshan City, Anhui Province 243002, PR China)
,
Chen Mohan
(School of Materials Science and Engineering, Anhui University of Technology, Maanshan City, Anhui Province 243002, PR China)
,
Li Mingxi
(School of Materials Science and Engineering, Anhui University of Technology, Maanshan City, Anhui Province 243002, PR China)
,
Zhang Shihong
(Research Center of Modern Surface and Interface Engineering, Anhui University of Technology, Maanshan City, Anhui Province 243002, PR China)
,
Zhang Shihong
(School of Materials Science and Engineering, Anhui University of Technology, Maanshan City, Anhui Province 243002, PR China)
資料名：
Ceramics International
(Ceramics International)
巻： 43 号： 4 ページ： 3774-3783 発行年： 2017年
JST資料番号： H0705A ISSN： 0272-8842 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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