文献
J-GLOBAL ID:201702268735850066
整理番号:17A0062099
自己整合Al_2O_3ゲート誘電体を用いた優れた性能AlGaN/GaNフィンMOSHEMT【Powered by NICT】
Excellent-Performance AlGaN/GaN Fin-MOSHEMTs with Self-Aligned Al_2O_3 Gate Dielectric
著者 (9件):
Tan Xin
(Hebei Semiconductor Research Institute)
,
Zhou Xingye
(Hebei Semiconductor Research Institute)
,
Guo Hongyu
(Hebei Semiconductor Research Institute)
,
Gu Guodong
(Hebei Semiconductor Research Institute)
,
Wang Yuangang
(Hebei Semiconductor Research Institute)
,
Song Xubo
(Hebei Semiconductor Research Institute)
,
Yin Jiayun
(Hebei Semiconductor Research Institute)
,
Lv Yuanjie
(Hebei Semiconductor Research Institute)
,
Feng Zhihong
(Hebei Semiconductor Research Institute)
資料名:
Chinese Physics Letters
(Chinese Physics Letters)
巻:
33
号:
9
ページ:
098501-1-098501-4
発行年:
2016年
JST資料番号:
W1191A
ISSN:
0256-307X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
中国 (CHN)
言語:
英語 (EN)