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文献
J-GLOBAL ID：201702268789179861
整理番号：17A0462170
ULSI配線のための先進的単一前駆体によるpSiCOH k=2.4
Advanced single precursor based pSiCOH k = 2.4 for ULSI interconnects
Priyadarshini Deepika
(IBM Research, Albany Nanotech, Albany, New York 12203)
,
Nguyen Son V.
(IBM Research, Albany Nanotech, Albany, New York 12203)
,
Shobha Hosadurga
(IBM Research, Albany Nanotech, Albany, New York 12203)
,
Liniger Eric
(IBM T.J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598)
,
Chen James H.-C.
(IBM Research, Albany Nanotech, Albany, New York 12203)
,
Huang Huai
(IBM Research, Albany Nanotech, Albany, New York 12203)
,
Cohen Stephan A.
(IBM T.J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598)
,
Grill Alfred
(IBM T.J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 35 号： 2 ページ： 021201-021201-6 発行年： 2017年03月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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