文献
J-GLOBAL ID:201702269324271432
整理番号:17A1038170
ロバストなカーボンナノチューブNFETの接触工学とチャネルドーピング【Powered by NICT】
Contact engineering and channel doping for robust carbon nanotube NFETs
著者 (6件):
Jianshi Tang
(IBM Thomas J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598, USA)
,
Farmer Damon
(IBM Thomas J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598, USA)
,
Bangsaruntip Sarunya
(IBM Thomas J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598, USA)
,
Kuan-Chang Chiu
(IBM Thomas J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598, USA)
,
Kumar Bharat
(IBM Thomas J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598, USA)
,
Shu-Jen Han
(IBM Thomas J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York 10598, USA)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2017
号:
VLSI-TSA
ページ:
1-2
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)