文献
J-GLOBAL ID:201702269448404279
整理番号:17A0400985
結晶シリコン上のゲルマニウム膜の固相結晶化【Powered by NICT】
Solid phase crystallization of germanium films on crystalline silicon
著者 (3件):
Kuroiwa Kyota
(Course of Electrical and Electronic System, Graduate School of Engineering, Tokai University, Kitakaname 4-1-1, Hiratsuka, Kanagawa 259-1292, Japan)
,
Kaneko Tetsuya
(Course of Electrical and Electronic System, Graduate School of Engineering, Tokai University, Kitakaname 4-1-1, Hiratsuka, Kanagawa 259-1292, Japan)
,
Isomura Masao
(Course of Electrical and Electronic System, Graduate School of Engineering, Tokai University, Kitakaname 4-1-1, Hiratsuka, Kanagawa 259-1292, Japan)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
621
ページ:
207-210
発行年:
2017年
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)