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文献
J-GLOBAL ID：201702269628399613
整理番号：17A1458536
マグネトロンスパッタリング中のターゲット侵食プロファイルの過渡的発展:ガス圧と磁場配位への依存性【Powered by NICT】
Transient evolution of the target erosion profile during magnetron sputtering: Dependence on gas pressure and magnetic configuration
Nakano Takeo
(Dept. of Materials and Life Science, Seikei University, 3-3-1, Kichijoji-Kita, Musashino, Tokyo 180-8633, Japan)
,
Saitou Yudai
(Dept. of Materials and Life Science, Seikei University, 3-3-1, Kichijoji-Kita, Musashino, Tokyo 180-8633, Japan)
,
Oya Kei
(Dept. of Materials and Life Science, Seikei University, 3-3-1, Kichijoji-Kita, Musashino, Tokyo 180-8633, Japan)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 326 号： PB ページ： 436-442 発行年： 2017年
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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