文献
J-GLOBAL ID:201702269658687906
整理番号:17A0590375
Ar/O2混合物中のTiの反応性高出力インパルスマグネトロンスパッタリングにおけるプラズマパラメータの測定とモデルリング
Measurement and modeling of plasma parameters in reactive high-power impulse magnetron sputtering of Ti in Ar/O2 mixtures
著者 (3件):
Cada M.
(Institute of Physics v. v. i., Academy of Sciences of the Czech Republic, Na Slovance 2, 182 21 Prague 8, Czech Republic)
,
Lundin D.
(Laboratoire de Physique des Gaz et des Plasmas-LPGP, UMR 8578, CNRS-Universite Paris-Sud, 91405 Orsay, France)
,
Hubicka Z.
(Institute of Physics v. v. i., Academy of Sciences of the Czech Republic, Na Slovance 2, 182 21 Prague 8, Czech Republic)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
121
号:
17
ページ:
171913-171913-7
発行年:
2017年05月07日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)