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文献
J-GLOBAL ID：201702271082300490
整理番号：17A0214197
BEOLは将来の相互接続のための改良されたエレクトロマイグレーション寿命と互換性のあるグラフェン/銅【Powered by NICT】
BEOL compatible graphene/Cu with improved electromigration lifetime for future interconnects
Li Ling
(Department of Electrical Engineering and Stanford SystemX Alliance, Stanford University, Stanford, CA, USA)
,
Zhu Zhongwei
(Lam Research Corp., Fremont, CA, USA)
,
Wang Tao
(Department of Electrical Engineering and Stanford SystemX Alliance, Stanford University, Stanford, CA, USA)
,
Currivan-Incorvia Jean A.
(Department of Electrical Engineering and Stanford SystemX Alliance, Stanford University, Stanford, CA, USA)
,
Yoon Alex
(Lam Research Corp., Fremont, CA, USA)
,
Wong H.-S. Philip
(Department of Electrical Engineering and Stanford SystemX Alliance, Stanford University, Stanford, CA, USA)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016 号： IEDM ページ： 9.5.1-9.5.4 発行年： 2016年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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