文献
J-GLOBAL ID:201702271120721800
整理番号:17A0133040
ケイ素とゲルマニウムの界面におけるフォノン輸送
Phonon transport at interfaces between different phases of silicon and germanium
著者 (2件):
Gordiz Kiarash
(George W. Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, Georgia, 30332, USA)
,
Henry Asegun
(George W. Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, Georgia, 30332, USA)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
121
号:
2
ページ:
025102-025102-12
発行年:
2017年01月14日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)