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文献
J-GLOBAL ID：201702271177497680
整理番号：17A1104256
二元同時スパッタリングを用いたシリコン含有ダイヤモンドライクカーボン成膜
Deposition of silicon-containing diamond-like carbon film using dual magnetron sputtering
三輪侑生
(名城大)
,
太田貴之
(名城大)
,
小田昭紀
(千葉工大)
,
上坂裕之
(岐阜大)
資料名：
電気学会プラズマ研究会資料
(電気学会研究会資料)
巻： PST-17 号： 48-57 ページ： 41-42 発行年： 2017年08月11日
JST資料番号： Z0951A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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