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文献
J-GLOBAL ID：201702271623107255
整理番号：17A0747535
界面活性剤を含まない疎水性会合に基づく自律自己修復ヒドロゲル【Powered by NICT】
An autonomous self-healing hydrogel based on surfactant-free hydrophobic association
Owusu-Nkwantabisah Silas
(Kodak Research Laboratories Eastman Kodak Company, 1999 Lake Avenue, Rochester, New York, 14650)
,
Gillmor Jeffrey R.
(Technical Solutions Division, Eastman Kodak Company, 1999 Lake Avenue, Rochester, New York, 14650)
,
Switalski Steven C.
(Technical Solutions Division, Eastman Kodak Company, 1999 Lake Avenue, Rochester, New York, 14650)
,
Slater Gary L.
(Technical Solutions Division, Eastman Kodak Company, 1999 Lake Avenue, Rochester, New York, 14650)
資料名：
Journal of Applied Polymer Science
(Journal of Applied Polymer Science)
巻： 134 号： 19 ページ： ROMBUNNO.44800 発行年： 2017年
JST資料番号： C0467A ISSN： 0021-8995 CODEN： JAPNAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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