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文献
J-GLOBAL ID：201702271648324483
整理番号：17A0470350
逐次イオンビーム照射と陽極エッチングによって作製した階層的シリコン構造の形成機構の研究【Powered by NICT】
Study of the formation mechanism of hierarchical silicon structures produced by sequential ion beam irradiation and anodic etching
Punzon-Quijorna Esther
(Departamento de Fisica Aplicada e Instituto de Ciencia de Materiales Nicolas Cabrera, Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain)
,
Punzon-Quijorna Esther
(Centro de Microanalisis de Materiales (CMAM), Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain)
,
Kajari-Shroder Sarah
(Institut fuer Solarenergieforschung Hameln (ISFH), 31860, Emmerthal, Germany)
,
Agullo-Rueda Fernando
(Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM-CSIC), 28049 Madrid, Spain)
,
Manso Silvan Miguel
(Departamento de Fisica Aplicada e Instituto de Ciencia de Materiales Nicolas Cabrera, Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain)
,
Martin-Palma Raul Jose
(Departamento de Fisica Aplicada e Instituto de Ciencia de Materiales Nicolas Cabrera, Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain)
,
Herrero Fernandez Pilar
(Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM-CSIC), 28049 Madrid, Spain)
,
Torres-Costa Vicente
(Departamento de Fisica Aplicada e Instituto de Ciencia de Materiales Nicolas Cabrera, Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain)
,
Torres-Costa Vicente
(Centro de Microanalisis de Materiales (CMAM), Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain)
,
Climent-Font Aurelio
(Departamento de Fisica Aplicada e Instituto de Ciencia de Materiales Nicolas Cabrera, Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain)
,
Climent-Font Aurelio
(Centro de Microanalisis de Materiales (CMAM), Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain)
資料名：
Vacuum
(Vacuum)
巻： 138 ページ： 238-243 発行年： 2017年
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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