文献
J-GLOBAL ID:201702271912731818
整理番号:17A0381446
ナノスケール高分子レンズアレイによるサブ波長光リソグラフィー【Powered by NICT】
Sub-wavelength optical lithography via nanoscale polymer lens array
著者 (4件):
Wu Jin
(School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, Singapore)
,
Tao Kai
(School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, Singapore)
,
Chen Di
(Shanghai Jiao Tong University, P.R. China)
,
Miao Jianmin
(School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, Singapore)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2017
号:
MEMS
ページ:
289-292
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)